\s\up7(Cl2/hν(Cl2/hν)NaOH/水△ \s\up7([O]([O])

针对训练

1．高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线：

已知：①RCHO＋R1CH2COOH\s\up7(催化剂，350 ℃(催化剂，350 ℃)＋H2O；

②由B生成C的反应属于加聚反应；

③D属于高分子化合物。

请回答下列问题：

(1)X生成Y的条件是________。E的分子式为_______________________________________。

(2)芳香烃I与A的实验式相同，经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2，则I的结构简式为________________________________________________。

推测I可能发生的反应类型是________(写出1种即可)。

(3)由E生成F的化学方程式为____________________________________________________

_____________________________________________________________________________。

(4)D和G反应生成H的化学方程式为______________________________________________

_____________________________________________________________________________。

(5)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有_____种(不考虑立体异构)。

(6)参照上述合成路线，以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选)，设计制备

的合成路线。